Ekspert w Urzędzie Patentowym RP - Ocena ryzyka zawodowego metodą PN-N-18002

Ekspert w Urzędzie Patentowym RP

Charakterystyka ryzyka zawodowego

• Ryzyko zawodowe zawiera około 20 stron.
• Ocenę ryzyka zawodowego opracowano metodą trzystopniową, zgodnie z Polską Normą PN-N-18002.
• Pierwsza strona ryzyka zawodowego, zawiera miejsce na zatwierdzenie dokumentu.
• Ostatnia strona dokumentu zawiera miejsce na podpis pracownika, potwierdzający zapoznanie się z ryzykiem zawodowym.

Spis treści dokumentacji ryzyka:

• Strona tytułowa.
• Charakterystyka Metody PN-N-18002.
• Opis dla stanowiska pracy.
• Wymagania dla stanowiska pracy.
• Identyfikacja zagrożeń na stanowisku pracy.
• Karta pomiaru ryzyka zawodowego.
• Plan działań korygujących ryzyko zawodowe dla stanowiska pracy.
• Potwierdzenie zapoznania z dokumentacją dla stanowiska.

Opis stanowiska pracy.

Ekspert w Urzędzie Patentowym RP orzeka o udzielaniu patentów i dodatkowych praw ochronnych na wynalazki, praw ochronnych na wzory użytkowe oraz znaki towarowe, a także praw z rejestracji wzorów przemysłowych, oznaczeń geograficznych i topografii układów scalonych. Rozstrzyga sprawy w postępowaniu spornym w zakresie określonym właściwą ustawą.

Zadania zawodowe na stanowisku ekspert w urzędzie patentowym RP:

• orzekanie o udzielaniu patentów i dodatkowych praw ochronnych na wynalazki;
• orzekanie o udzielaniu praw ochronnych na wzory użytkowe oraz znaki towarowe;
• orzekanie o udzielaniu praw z rejestracji wzorów przemysłowych, oznaczeń geograficznych i topografii układów scalonych;
• rozstrzyganie spraw w postępowaniu spornym w zakresie określonym właściwą ustawą;
• dokonywanie wpisów do rejestrów (rejestr patentowy, rejestr wzorów użytkowych, rejestr wzorów przemysłowych, rejestr znaków towarowych, rejestr oznaczeń geograficznych oraz rejestr topografii układów scalonych);
• uwzględnianie dyrektyw interpretacyjnych ustalonych w Ogólnych Wytycznych Prezesa Urzędu Patentowego;
• branie udziału w konferencjach i spotkaniach specjalistycznych;
• rozwój kompetencji własnych.